CoPtドットの保磁力マッピング
株式会社日立ハイテクサイエンス
| ジャンル | マグネティックス, ストレージ |
|---|---|
| モード | MFM |
| 測定領域 | 約1.8µm |
| ステーション | SPI4000 |
| 装置 | SPA-300HVと磁場印加オプション |
解説
(a)模式図 (b)SPA-300HVに搭載した写真
記録媒体の保磁力付近での磁化過程や，ナノスケール磁性体のダイナミックな磁化特性などを調べることが可能な磁場印加MFM装置を秋田大学 石尾研究室と共同で開発しました。水平磁場印加システムで最大6kOe (1）、垂直磁場印加システム (2） （Fig.1参照）で最大10kOeの磁場が印加可能です。
タイトル画像は、垂直磁場印加システムを使用し，CoPtドット（直径50nm）配列の磁化反転磁場の2次元分布像(3)～(5）です。外部磁場を変化させながら、その残留磁化状態でのMFM像より、各ドットに磁化反転が生じる磁場の大きさ、すなわち保磁力をドット毎にプロットしたものです。ドット毎に保磁力が異なっていることがわかり、この原因の解析や対策についても研究が進められています。将来のパターンドメディアやMRAMなどの磁気デバイス評価としても重要な技術となります。
引用文献：
- 高星英明, 斉藤準, 石尾俊二, 山岡武博, 岡本巌: ”磁場中MFMを用いた面内磁気記録媒体における磁気クラスター観察”，日本応用磁気学会誌, Vol.26, No.4, pp.284-288, 2002.
- 石尾俊二，斉藤準, 高星英明，伊藤弘高，山岡武博:“磁気力顕微鏡を用いた磁区構造解析技術の最近の動向”,日本応用磁気学会誌, Vol.26, No.10, pp.1034-1040, 2002.
- 高星英明：“磁気力顕微鏡を用いたナノスケール磁性薄膜の磁区構造解析に関する研究”,平成15年度秋田大学審査博士学位論文, 2004.
- J. Bai, H. Takahoshi, H. Ito, H. Saito, S. Ishio: "Dot-by-dot analysis of magnetization reversal in perpendicular patterned CoCrPt medium by using magnetic force microscopy", Journal of Applied Physics, 96, pp.1133-1137, 2004.
- J. Bai, H. Saito, S. Ishio: "Coercivity map in perpendicular media investigated by using in situ magnetic force microscopy", Journal of Applied Physics, 96, pp.5924-5926, 2004.
関連文献：
関連情報
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